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主要功能及特點：
PECVD設備利用平板電容式輝光放電原理，將通入沉積室的工藝氣體解離并產生等離子體，被解離的基團在等離子體中重新發生化學反應，由于等離子體存在，促進氣體分子的分解、化合、激發和電離，促進反應活性基團的生成，從而降低沉積溫度，在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據工藝調節等離子體的密度和能量，控制薄膜的生長速率和微結構。
產品參數：
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產品名稱 |
桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD |
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產品型號 |
CY-PECVD-240T-SS |
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供電電源 |
AC220V 50Hz |
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射頻電源 |
信號頻率 |
13.56MHz |
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功率輸出范圍 |
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工作腔體 |
加熱溫度 |
RT-500℃（還可選擇600℃，800℃，1000℃等） |
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樣品臺尺寸 |
Φ100mm（兼容4英寸及以下樣品） |
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樣品臺轉速 |
1-20rpm 可調 |
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腔體材質 |
不銹鋼 |
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觀察窗 |
Φ60mm, 帶擋板 |
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供氣系統 |
通道數 |
3 （可根據需要選擇其他通道數，其他氣體種類，其他測量范圍） |
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測量單位 |
質量流量計 |
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測量范圍 |
A 通道: 0～200SCCM for O2 |
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B通道: 0～200SCCM for N2 |
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C通道: 0～200SCCM for Ar |
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真空系統 |
前級泵抽速 |
1.1L/s |
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分子泵抽速 |
60L/s |
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真空測量 |
復合真空計 |
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真空度 |
5.0*10-3Pa |
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水冷機 |
水流速 |
10L/min |
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冷卻功率 |
50W/℃ |
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